真空電鍍的工藝原理

真空電鍍法是在真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。

加熱金屬的方法：可以利用電阻產(chǎn)生的熱能，也可以利用電子束。

在對塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹(shù)脂變形，必須對蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過(guò)程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(如氧化等)，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著(zhù)力。通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低( 10-5Pa )。鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附著(zhù)力差，易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%。